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        太倉低溫等離子凈化設備

        太倉低溫等離子凈化設備

        • 所屬分類:太倉低溫等離子凈化設備

        • 點擊次數:
        • 發布日期:2018/05/11
        • 規格:
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        • 詳細介紹

        一、 概述

        低溫等離子體是繼固態、液態、氣態之后的物質第四態,當外加電壓達到氣體的著火電壓時,氣體分子被擊穿,產生包括電子、各種離子、原子和自由基在內的混合體。放電過程中雖然電子溫度很高,但重粒子溫度很低,整個體系呈現低溫狀態,所以稱為低溫等離子體。低溫等離子體降解污染物是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的污染物作用,使污染物分子在極短的時間內發生分解,并發生后續的各種反應以達到降解污染物的目的。低溫等離子體的產生方法有:輝光放電,電暈放電,介質阻擋放電,射頻放電,滑動弧放電,射流放電,大氣壓輝光放電,次大氣壓輝光放電。

        二、 工藝原理及流程:

        (1)工藝原理:當廢氣經過等離子發生器時,在高壓脈沖電場中,通過前后沿陡峭、脈寬極窄(ns)的高壓脈沖電暈放電,在常溫下獲得非平衡高能低溫等離子體,即產生大量高能電子(約5eV)和具有極強氧化性能的羥基自由基(·OH、·HO2、·O)、以及氧化性極強O3等高能活性粒子,與廢氣中有機物分子進行非彈性碰撞,使有機物分子化學鍵斷裂,發生一系列復雜氧化、降解化學反應,最終使廢氣中有毒有害有機物轉變為無害的二氧化碳和水等,使廢氣得到凈化。

        三、設備適用性:

        適用的參數類型:大風量、低濃度的工業有機廢氣治理。

        低溫等離子凈化設備(水性印刷機廢氣)




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